喷涂是一种光刻胶和聚酰亚胺涂料的简单、经济和可重复工艺。涂层系统能够使用简单的分层技术精细控制流量、涂层速度和沉积量。

　　喷涂技术用于半导体光刻胶涂料。与传统的纺纱涂层和浸渍涂层工艺相比，具有均匀性高、微结构封装性好、涂层面积可控制等优点。近10年来，三维微结构光刻胶涂层的应用得到了充分的论证。雾化喷涂制备光刻胶涂料的工艺在微结构包装和均匀性工艺方面明显优于传统的纺丝涂料。

　　喷涂系统能精确控制流量、涂层速度和沉降体积。低速喷雾成型将喷雾定义为一种精确的、可控制的图案，以避免在产生非常薄和均匀的层时过度喷雾。该喷涂系统可控制从亚微米到100微米以上的厚度，并可覆盖任何形状或尺寸。

　　光刻胶涂层系统可用于平面和三维结构基材的表面涂层，包括硅片、玻璃、陶瓷、金属等材料。典型的光刻胶涂料应用包括晶圆、MEMS、透镜、微流体芯片、滤波器等。