喷涂系统已被证明适用于需要均匀、可重复的光刻胶或聚酰亚胺薄膜涂层的各种应用。通过控制从亚微米到 100 微米以上的厚度并能够涂覆任何形状或尺寸，涂层系统是旋转和传统喷涂等其他涂层技术的可行替代方案。

　　聚酰亚胺和光刻胶涂层的常见应用包括但不限于MEMS、镜头、微流体设备、微电子和过滤器。涂层系统能够在平面和 3D 基板上进行涂层，通常包括硅晶片、玻璃、陶瓷和金属。

　　喷涂是一种简单、经济且可重复的光刻胶和聚酰亚胺涂层工艺。镀膜系统可以使用简单的分层技术精确控制流速、镀膜速度和沉积量。低速喷雾成型将雾化喷雾定义为精确、可控的图案，避免过度喷涂，同时产生非常薄、均匀的层。

　　喷涂系统使用高频声音振动产生由数学定义的液滴组成的柔和雾气。消除了堵塞，因为没有使用压力来产生喷雾，并且液滴具有非常窄的液滴分布尺寸，进一步有助于沉积层的均匀性。